最新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了最新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着最高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。
　所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供优秀的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。

现代电子光路
　－高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像
　－独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™）设计提供了多种工作与显示模式
　－独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑
　－结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™），可模拟和优化电子束
　－可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像
　－电镜的全自动设置
　－成像速度快
　－使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航

维修简单

自动操作

用户界面友好的软件与软件工具
　－多语言操作界面
　－多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快
　－图片管理，报告生成
　－内置的系统检查与系统诊断
　－网络操作与远程进入/诊断
　－模块化软件体系结构
　－标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块
　－可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块

MIRA3 GM

MIRA3 XM

MIRA3 LM